實(shí)驗(yàn)室晶圓清洗小型臭氧濃度離子分解裝置

實(shí)驗(yàn)室晶圓清洗小型臭氧濃度離子分解裝置

1. 分解原理
   采用“離子分解 + 非金屬催化劑"兩段式結(jié)構(gòu)：
• 前段電暈放電產(chǎn)生低溫等離子體，使 O? 初步裂解為 O? + O*；
• 后段填充 Excimer  MnO?-沸石復(fù)合催化劑，把殘余臭氧轉(zhuǎn)化為氧氣，無(wú)二次污染物。
2. 性能指標(biāo)（2025 版）
• 入口臭氧濃度：≤ 1 000 ppm（瞬時(shí)峰值 1 500 ppm）
• 出口臭氧濃度：＜ 0.1 ppm（符合 JIS B 9929 室內(nèi)臭氧≤0.1 mg/m3 要求）
• 處理風(fēng)量：5–25 L/min（內(nèi)置 DC 無(wú)刷泵，可隨設(shè)備聯(lián)動(dòng)啟停）
• 壓損：≈ 120 Pa @ 10 L/min，對(duì)背壓敏感的小型 UV 腔體同樣適用
• 催化劑壽命：≥ 8 000 h（每天 8 h 約可用 3 年），到期后模塊整體更換，重量?jī)H 80 g
3. 外形與接口
• 主機(jī) 120×90×45 mm，0.35 kg，IP20 桌面放置
• 進(jìn)氣/出氣為 φ6 mm 快擰接頭，標(biāo)配 1 m FEP 配管
• 電源：DC 12 V/1 A（附帶 100–240 V AC 適配器），功耗 ≤ 8 W
• 外部控制：光電隔離 RUN/STOP 信號(hào)，可與 UV 燈電源聯(lián)動(dòng)；提供臭氧泄漏報(bào)警干接點(diǎn)
4. 典型應(yīng)用
• 準(zhǔn)分子（Excimer）UV 曝光機(jī)、O? 表面清洗機(jī)、小型臭氧水制取裝置的尾氣處理
• 實(shí)驗(yàn)室晶圓清洗、FPD 封裝預(yù)處理后，直接排入室內(nèi)空調(diào)環(huán)境

1. 分解原理
   采用“離子分解 + 非金屬催化劑"兩段式結(jié)構(gòu)：
• 前段電暈放電產(chǎn)生低溫等離子體，使 O? 初步裂解為 O? + O*；
• 后段填充 Excimer  MnO?-沸石復(fù)合催化劑，把殘余臭氧轉(zhuǎn)化為氧氣，無(wú)二次污染物。
2. 性能指標(biāo)（2025 版）
• 入口臭氧濃度：≤ 1 000 ppm（瞬時(shí)峰值 1 500 ppm）
• 出口臭氧濃度：＜ 0.1 ppm（符合 JIS B 9929 室內(nèi)臭氧≤0.1 mg/m3 要求）
• 處理風(fēng)量：5–25 L/min（內(nèi)置 DC 無(wú)刷泵，可隨設(shè)備聯(lián)動(dòng)啟停）
• 壓損：≈ 120 Pa @ 10 L/min，對(duì)背壓敏感的小型 UV 腔體同樣適用
• 催化劑壽命：≥ 8 000 h（每天 8 h 約可用 3 年），到期后模塊整體更換，重量?jī)H 80 g
3. 外形與接口
• 主機(jī) 120×90×45 mm，0.35 kg，IP20 桌面放置
• 進(jìn)氣/出氣為 φ6 mm 快擰接頭，標(biāo)配 1 m FEP 配管
• 電源：DC 12 V/1 A（附帶 100–240 V AC 適配器），功耗 ≤ 8 W
• 外部控制：光電隔離 RUN/STOP 信號(hào)，可與 UV 燈電源聯(lián)動(dòng)；提供臭氧泄漏報(bào)警干接點(diǎn)
4. 典型應(yīng)用
• 準(zhǔn)分子（Excimer）UV 曝光機(jī)、O? 表面清洗機(jī)、小型臭氧水制取裝置的尾氣處理
• 實(shí)驗(yàn)室晶圓清洗、FPD 封裝預(yù)處理后，直接排入室內(nèi)空調(diào)環(huán)境