在半導體刻蝕、沉積、材料表面改性等等離子體工藝中，電子溫度、離子密度、等離子體電位等核心參數，是決定工藝穩定性與產品良率的 “隱形密碼"。傳統監測手段無法精準量化等離子體狀態，導致工藝優化難、良率波動大，成為行業卡脖子難題。針對這一痛點，比利時 Impedans 推出朗繆爾探針（Langmuir Probe）等離子體測量系統，作為等離子體診斷的 “金標準" 設備，可實時精準測量等離子體全維度關鍵參數，為半導體、材料科研等領域提供可靠的工藝管控與研發支撐。

朗繆爾探針通過向探針施加掃描電壓，采集探針電流 - 電壓（I-V）特性曲線，基于等離子體物理理論反演計算，精準獲取電子溫度、離子密度、等離子體電位、浮置電位、電子能量分布函數等核心參數。系統內置專業射頻濾波技術，可有效抑制射頻干擾，保障高射頻等離子體環境下的測量精度，哪怕是復雜工況也能輸出穩定可靠的數據。

該系統采用模塊化設計，支持多種法蘭接口，可快速安裝在各類真空腔室，兼容幾乎所有腔型，部署靈活不挑場景。搭配直觀易用的專業分析軟件，適配 Windows PC / 筆記本，界面友好，一鍵式數據采集、分析、可視化，無需復雜編程，新手也能快速上手。可選配線性驅動空間掃描系統，自動掃描晶圓 / 腔室空間，實現等離子體二維 / 三維空間表征，適配半導體工藝均勻性檢測需求。同時支持單探針、雙探針、平面、球形、馬赫探針等多種探頭，探頭頭可快速互換，適配不同工況，還提供固定軸、柔性軸等多種型號，狹小空間、特殊腔室也能輕松安裝。超 100 篇學術出版物采用該系統數據，被學術界廣泛認可為可靠的等離子體測量數據源，學術級可靠性拉滿。

系統由機架式電子控制單元、多種規格朗繆爾探針探頭、專業分析軟件三部分組成，核心部件性能穩定，可滿足長期連續測量需求。同時支持線性驅動空間掃描系統、射頻濾波增強模塊、多探頭自動切換系統、定制化柔性軸、特殊探頭等多種拓展功能，可根據不同使用場景靈活配置，滿足個性化工藝需求，一臺設備覆蓋全流程檢測。

該系統廣泛應用于半導體制造、科研實驗室、材料表面處理、新能源、航空航天等多個領域。在半導體制造中，可用于刻蝕、沉積、清洗等等離子體工藝的參數監控、工藝優化、均勻性檢測；在科研實驗室中，可用于等離子體物理基礎研究、新型等離子體源研發、空間等離子體模擬；在材料表面處理領域，可用于等離子體鍍膜、表面改性、等離子體清洗工藝的參數管控；在新能源領域，可用于光伏、燃料電池等領域的等離子體工藝研發與產線監控；在航空航天領域，可用于空間等離子體環境模擬、航天器等離子體相互作用研究，為各行業等離子體工藝研發與質量管控提供有力保障。